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產(chǎn)品詳情
  • 產(chǎn)品名稱:OTSUKA大塚電子光譜干涉式晶圓測(cè)厚儀SF-3naitokikai

  • 產(chǎn)品型號(hào):
  • 產(chǎn)品廠商:OTSUKA大塚電子
  • 產(chǎn)品價(jià)格:0
  • 折扣價(jià)格:0
  • 產(chǎn)品文檔:
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簡(jiǎn)單介紹:
在晶圓的研磨、拋光等過(guò)程中,可以超高速、高精度、非接觸地測(cè)量晶圓和樹(shù)脂的厚度。 銷(xiāo)售中心-重慶內(nèi)藤naitokikai
詳情介紹:
特征
  • 通過(guò)光學(xué)方法可以進(jìn)行非接觸式和非破壞性的厚度測(cè)量。
  • 實(shí)現(xiàn)高測(cè)量再現(xiàn)性
  • 可實(shí)時(shí)高速監(jiān)控拋光
  • 實(shí)現(xiàn)了長(zhǎng) WD(工作距離)并且易于集成到設(shè)備中
  • 從主機(jī)設(shè)備使用 LAN 通過(guò) TCP/IP 通信進(jìn)行控制
  • 可以進(jìn)行多層厚度測(cè)量
  • 可測(cè)量臨時(shí)晶圓(臨時(shí)鍵合晶圓)各層厚度

5個(gè)特點(diǎn)

 

測(cè)量項(xiàng)目
  • 厚度測(cè)量(5層)

 

用法
  • 各種晶圓(硅、其他化合物晶圓)的厚度測(cè)量
  • 融入各種工藝,如研磨、拋光、粘合等。
  • 晶圓以外的厚膜部件厚度測(cè)量

 

集成到半導(dǎo)體工藝中的示例
■ 臨時(shí)粘合

 

 

 

■ 背景研磨

 

背景趨勢(shì)圖

 

 

■ 濕蝕刻

 

 

 

■ CMP工藝

 

規(guī)格

SF-3規(guī)格

*1 : 測(cè)量初始標(biāo)準(zhǔn)樣品 AirGap 約 1000 μm 時(shí)的相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差 (n = 20)
*2 : WD80 mm 探頭規(guī)格的設(shè)計(jì)值

設(shè)備配置

映射

■ 300 毫米晶圓測(cè)繪系統(tǒng)

  • 通過(guò)對(duì)準(zhǔn)精細(xì)圖案提供晶圓厚度和各種厚度信息
  • 配備高精度XY定位平臺(tái)(±2μm以下),實(shí)現(xiàn)高精度定位
  • 可以處理晶圓以外的形狀
  • 可以檢查測(cè)量點(diǎn)周?chē)囊曇?/span>
  • 對(duì)應(yīng)半導(dǎo)體用300mm晶圓
  • 與 MEMS 和傳感器設(shè)備兼容

 

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